内容介绍：第四章 薄膜的化学气相沉积(Chemical vapor deposition)1第一节 化学气相沉积反应的类型 第二节 化学气相沉积过程的热力学 第三节 气体的输运特性 第四节 化学气相沉积装置 第五节 Sol—Gel工艺技术2简介化学气相沉积 （chemical vapor deposition, CVD）利用气态的先驱反应物，通过原子、分 子间化学反应的途径生成固态薄膜的技术。3应用范围包括